Method for manufacturing flow-type ion-selective electrode, and flow-type ion-selective electrode
WO2025197215
Art A1
25. September 2025
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025197215
- Aktenzeichen
- EP24927691
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2024
- Veröffentlichung
- 25. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N27/333G01N27/28G01N27/416
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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