Substrate processing method, trained model generation method, nozzle speed acquisition method, training data creation method, substrate processing device, trained model, nozzle speed acquisition device, and computer program

WO2025197385 Art A1 25. September 2025

Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025197385
Aktenzeichen: EP25773939
Anmeldetag: 18. Februar 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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