Gas treatment method
WO2025197534
Art A1
25. September 2025
Anmelder: THE UNIVERSITY OF TOKYO, USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025197534
- Aktenzeichen
- EP25773725
- Anmeldetag
- 4. März 2025
- Veröffentlichung
- 25. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01D53/04B01D53/56B01D53/62B01D53/82B01D53/96B01J20/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- THE UNIVERSITY OF TOKYO
USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
University of Tokyo
Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.
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🇯🇵
Ushio Inc.
Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.
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