Alloy thin film and sputtering target

WO2025197626 Art A1 25. September 2025

Anmelder: PROTERIAL, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025197626
Aktenzeichen: EP25773636
Anmeldetag: 7. März 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/14C22C19/03C22C21/00C22F1/10C23C10/48C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: PROTERIAL, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von