Microwave plasma processing device and plasma generation method

WO2025197982 Art A1 25. September 2025

Anmelder: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025197982
Aktenzeichen: EP25774158
Anmeldetag: 19. März 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/27C23C16/511C30B25/02C30B29/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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