Method for patterning for chemical mechanical polishing (cmp) iso-dense bias compensation using z-height

WO2025198746 Art A1 25. September 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025198746
Aktenzeichen: EP25774647
Anmeldetag: 12. Februar 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/321H01L21/67H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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