Dynamic correction for leakage current and background radiation

WO2025198799 Art A1 25. September 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025198799
Aktenzeichen: EP25774622
Anmeldetag: 25. Februar 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/03G01N21/05G01N21/27G01N21/3504G01N21/33G01N21/61G01K1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von