Selective deposition of cobalt and ruthenium, and related structures
WO2025198860
Art A1
25. September 2025
Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025198860
- Aktenzeichen
- EP25774638
- Anmeldetag
- 6. März 2025
- Veröffentlichung
- 25. September 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/04C23C16/06C23C16/455C23C16/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ENTEGRIS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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Fachgebiete
Vertreten von
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