Selective Tungsten Nand Deep Contact Gap Bottom Fill

WO2025198864 Art A1 25. September 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025198864
Aktenzeichen: EP25774559
Anmeldetag: 6. März 2025
Veröffentlichung: 25. September 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/02H01L21/285H01L23/532H10B41/27H10B43/27

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von