Apparatus for and method of controlling contaminant dispersal in euv radiation source

WO2025201973 Art A1 2. Oktober 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025201973
Aktenzeichen: EP25713594
Anmeldetag: 18. März 2025
Veröffentlichung: 2. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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