Positive resist composition, method for forming resist pattern, and polymer

WO2025203874 Art A1 2. Oktober 2025

Anmelder: ZEON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025203874
Aktenzeichen: EP24931742
Anmeldetag: 29. November 2024
Veröffentlichung: 2. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/22G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ZEON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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