Diffraction device, laser device, interference fringe formation method, and laser beam diffraction method
WO2025204541
Art A1
2. Oktober 2025
Anmelder: HAMAMATSU PHOTONICS K.K., THE UNIVERSITY OF ELECTRO-COMMUNICATIONS 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025204541
- Aktenzeichen
- EP25775769
- Anmeldetag
- 3. März 2025
- Veröffentlichung
- 2. Oktober 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02F1/29
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
THE UNIVERSITY OF ELECTRO-COMMUNICATIONS - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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