Method for producing semiconductor substrate, composition, and method for producing compound

WO2025205091 Art A1 2. Oktober 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025205091
Aktenzeichen: EP25776612
Anmeldetag: 14. März 2025
Veröffentlichung: 2. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07C2/86C07C37/16C07C39/16C07C39/23C07C41/30C07C43/21C07C67/28C07C67/035C07D311/82

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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