Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, and compound

WO2025205681 Art A1 2. Oktober 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025205681
Aktenzeichen: EP25778745
Anmeldetag: 24. März 2025
Veröffentlichung: 2. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/10C07C309/12C07C309/17C07C309/42C07C381/12C07D295/26C07D309/12C07D317/08C07D317/70C07D321/10C07D327/04C07D333/76C07D493/08C08F212/02C08F212/14C08F220/10C09K3/00G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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