Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2025205966 Art A1 2. Oktober 2025

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025205966
Aktenzeichen: EP25775164
Anmeldetag: 26. März 2025
Veröffentlichung: 2. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/42G03F1/84G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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