Semiconductor Cleaning Agent Composition

WO2025205971 Art A1 2. Oktober 2025

Anmelder: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025205971
Aktenzeichen
EP25775278
Anmeldetag
26. März 2025
Veröffentlichung
2. Oktober 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304C08F216/02C08F216/16C08F222/02C08L35/08C11D7/22
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nippon Shokubai

Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.

1.571 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von

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