Mask composition and mask for etching

WO2025206081 Art A1 2. Oktober 2025

Anmelder: TOMOEGAWA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025206081
Aktenzeichen: EP25777416
Anmeldetag: 27. März 2025
Veröffentlichung: 2. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOMOEGAWA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tomoegawa

Tomoegawa ist ein japanischer Hersteller von Spezialpapieren und Funktionsmaterialien mit Sitz in Tokio, der unter anderem Materialien für Elektronik und optische Anwendungen produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Optik- und Fototechnik sowie Halbleiter- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

256 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von