Methods of patterning for high aspect ratio catalyst assisted chemical etching

WO2025210016 Art A1 9. Oktober 2025

Anmelder: PAUL SCHERRER INSTITUT, ETH ZÜRICH 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025210016
Aktenzeichen: EP25718294
Anmeldetag: 1. April 2025
Veröffentlichung: 9. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: PAUL SCHERRER INSTITUT
ETH ZÜRICH
Land: 🇨🇭 Schweiz

🇨🇭 PAUL Scherrer Institut

Das Paul Scherrer Institut ist das größte Forschungszentrum für Natur- und Ingenieurwissenschaften der Schweiz mit Sitz in Villigen und Anbindung an Großforschungsanlagen wie Synchrotron und Freie-Elektronen-Laser. Die Patente betreffen vor allem Mess- und Prüftechnik sowie Halbleiterelemente, ergänzt um Medizintechnik, Verfahrenstechnik und Optik. Anmeldungen erfolgen kontinuierlich seit 2000.

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🇨🇭 ETH Zürich

Eidgenössische Technische Hochschule Zürich, Schweizer Hochschule mit Forschungsschwerpunkten in Natur-, Ingenieur- und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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