Beam guiding device for guiding laser radiation and lithography system

WO2025210154 Art A1 9. Oktober 2025

Anmelder: TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN, ASML NETHERLANDS B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025210154
Aktenzeichen: EP25717042
Anmeldetag: 3. April 2025
Veröffentlichung: 9. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G02B7/18G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN
ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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