Method for adjusting substrate processing apparatus, substrate processing apparatus, and method for manufacturing article

WO2025211188 Art A1 9. Oktober 2025

Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025211188
Aktenzeichen: EP25782152
Anmeldetag: 24. März 2025
Veröffentlichung: 9. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00H01L21/66H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CANON KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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