Virtual experimentation platform for photolithography process flow

WO2025212378 Art A1 9. Oktober 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025212378
Aktenzeichen: EP25782624
Anmeldetag: 27. März 2025
Veröffentlichung: 9. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/004G03F7/38G03F7/30G03F7/36

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von