Atomic layer deposition method, and furnace tube device and vacuumizing method therefor

WO2025214048 Art A1 16. Oktober 2025

Anmelder: ACM RESEARCH (LINGANG), INC., ACM RESEARCH KOREA CO., LTD., CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED, ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025214048
Aktenzeichen: EP25785528
Anmeldetag: 12. März 2025
Veröffentlichung: 16. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/56C23C16/40C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ACM RESEARCH (LINGANG), INC.
ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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