A method of lithography and associated apparatuses

WO2025214673 Art A1 16. Oktober 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025214673
Aktenzeichen: EP25710060
Anmeldetag: 7. März 2025
Veröffentlichung: 16. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von