Method to determine ghost reflections in an interferometer system, interferometer system, projection system and exposure apparatus
WO2025214738
Art A1
16. Oktober 2025
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025214738
- Aktenzeichen
- EP25713621
- Anmeldetag
- 20. März 2025
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B9/02003G01B9/02004G01B9/02001G01B9/02015G01B9/02056
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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