Method to determine ghost reflections in an interferometer system, interferometer system, projection system and exposure apparatus

WO2025214738 Art A1 16. Oktober 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025214738
Aktenzeichen
EP25713621
Anmeldetag
20. März 2025
Veröffentlichung
16. Oktober 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G01B9/02003G01B9/02004G01B9/02001G01B9/02015G01B9/02056
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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