Optical amplifier for amplifying laser radiation, lithography system and method for amplifying laser radiation in an optical amplifier
WO2025215030
Art A1
16. Oktober 2025
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025215030
- Aktenzeichen
- EP25719971
- Anmeldetag
- 8. April 2025
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S3/00H01S3/034H01S3/03G01N21/94H01S3/036H01S3/07H01S3/223
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML NETHERLANDS B.V.
TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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