Beam guiding device for guiding laser radiation and lithography system

WO2025215031 Art A1 16. Oktober 2025

Anmelder: TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN, ASML NETHERLANDS B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025215031
Aktenzeichen: EP25718344
Anmeldetag: 8. April 2025
Veröffentlichung: 16. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G02B7/00G02B7/182G02B7/198G02B26/08G02B27/64G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN
ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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