Method of automated spatial patterning of defect centers in a substrate
WO2025215209
Art A1
16. Oktober 2025
Anmelder: DEUTSCHES ZENTRUM FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT E. V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025215209
- Aktenzeichen
- EP25719714
- Anmeldetag
- 11. April 2025
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/04C30B33/04G06N10/40G06N20/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DEUTSCHES ZENTRUM FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT E. V.
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt
Deutsches Forschungszentrum für Luftfahrt, Raumfahrt, Energie und Verkehr mit Hauptsitz in Köln. Das DLR ist zugleich die deutsche Raumfahrtagentur und betreibt zahlreiche Institute im gesamten Bundesgebiet.
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