Photosensitive resin composition for forming insulation film
WO2025220442
Art A1
23. Oktober 2025
Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025220442
- Aktenzeichen
- EP25789662
- Anmeldetag
- 25. März 2025
- Veröffentlichung
- 23. Oktober 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/027C08F2/44C08F4/00C08F4/32C08F20/00C08F283/00C08F290/14C08G73/10G03F7/004G03F7/20G03F7/031
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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