Radiation-sensitive composition, pattern formation method, polymer, and compound

WO2025220599 Art A1 23. Oktober 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025220599
Aktenzeichen: EP25789455
Anmeldetag: 11. April 2025
Veröffentlichung: 23. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C233/49C07C255/16C07C271/22C07C275/28C08F212/08G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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