Apparatus for removing residual monomers

WO2025220893 Art A1 23. Oktober 2025

Anmelder: HANWHA SOLUTIONS CORPORATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025220893
Aktenzeichen: EP25790552
Anmeldetag: 21. März 2025
Veröffentlichung: 23. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C08F6/00C08F14/06C08F2/18C08F2/22B01D3/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HANWHA SOLUTIONS CORPORATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Hanwha Solutions

Südkoreanisches Unternehmen, das in den Bereichen Chemie, Kunststoffe und Solarenergie tätig ist, darunter Herstellung von Photovoltaikmodulen sowie petrochemischen Grundstoffen und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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