Methods for improving throughput and gapfill quality for metal deposition

WO2025221597 Art A1 23. Oktober 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025221597
Aktenzeichen: EP25789434
Anmeldetag: 11. April 2025
Veröffentlichung: 23. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/04C23C16/08C23C16/505

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von