Substrate cleaning device and cleaning method, and coating and developing apparatus

WO2025223182 Art A1 30. Oktober 2025

Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH KOREA CO., LTD., CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025223182
Aktenzeichen: EP25793379
Anmeldetag: 7. April 2025
Veröffentlichung: 30. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: B08B1/12G03F7/26B08B1/20B08B1/36B08B1/40B08B13/00H01L21/67H01L21/02G03F7/20G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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