Fluorine-containing tin-oxo cluster photoresist compound and use thereof in photoetching field
WO2025223337
Art A1
30. Oktober 2025
Anmelder: DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY, NINGBO INSTITUTE OF DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOG 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025223337
- Aktenzeichen
- EP25793775
- Anmeldetag
- 20. April 2025
- Veröffentlichung
- 30. Oktober 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07F7/22G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
NINGBO INSTITUTE OF DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOG - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Dalian University of Technology
Die Dalian University of Technology ist eine chinesische staatliche Universität mit breitem naturwissenschaftlich-technischem Forschungsprofil. Das Portfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Fertigungsverfahren und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2004 bis in die Gegenwart belegt.
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