Method for highly accurately determining the location of a structure, apparatus for carrying out the method and metrology system for measuring lithography masks

WO2025224253 Art A1 30. Oktober 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025224253
Aktenzeichen: EP25722155
Anmeldetag: 24. April 2025
Veröffentlichung: 30. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G03F7/20G01N21/95

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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