Negative photosensitive resin composition, method for producing cured relief pattern, and semiconductor device

WO2025225133 Art A1 30. Oktober 2025

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025225133
Aktenzeichen: EP25794309
Anmeldetag: 14. Februar 2025
Veröffentlichung: 30. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027G03F7/031G03F7/037H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von