High aspect ratio beam dump or faraday cup with neutron radiation shielding

WO2025226883 Art A1 30. Oktober 2025

Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025226883
Aktenzeichen: EP25727078
Anmeldetag: 23. April 2025
Veröffentlichung: 30. Oktober 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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