Method and measurement system for determining data relating to aberrations caused by a projection system

WO2025228613 Art A1 6. November 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025228613
Aktenzeichen: EP25716119
Anmeldetag: 3. April 2025
Veröffentlichung: 6. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01M11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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