Cvd-Reaktor sowie Verfahren zu dessen Verwendung und Einrichtung

WO2025228867 Art A1 6. November 2025

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025228867
Aktenzeichen: EP25721898
Anmeldetag: 28. April 2025
Veröffentlichung: 6. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/30C23C16/32C23C16/455C23C16/458

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von