Optisches System, Lithographieanlage, Verfahren zur Herstellung eines Optischen Systems
WO2025229021
Art A1
6. November 2025
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025229021
- Aktenzeichen
- EP25722899
- Anmeldetag
- 29. April 2025
- Veröffentlichung
- 6. November 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/00G02B7/182
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CARL ZEISS SMT GMBH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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