Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Cvd-Reaktors

WO2025229194 Art A1 6. November 2025

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025229194
Aktenzeichen: EP25723679
Anmeldetag: 2. Mai 2025
Veröffentlichung: 6. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/30C23C16/44C23C16/455H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von