Atomic layer deposition of molybdenum silicide thin films

WO2025230819 Art A1 6. November 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC., WAYNE STATE UNIVERSITY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025230819
Aktenzeichen: EP25798369
Anmeldetag: 25. April 2025
Veröffentlichung: 6. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/42C23C16/455C23C16/44C23C16/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: APPLIED MATERIALS, INC.
WAYNE STATE UNIVERSITY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.785 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Wayne State University

Die Wayne State University ist eine staatliche Universität in Detroit, Michigan, mit breiter medizinischer und naturwissenschaftlicher Forschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und organische Chemie, ergänzt um Mess- und Prüftechnik sowie Pharma und Biotechnologie. Anmeldungen erfolgen kontinuierlich seit 2000.

383 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von