Improved energy accuracy for an rf linear accelerator ion implantation system
WO2025231087
Art A1
6. November 2025
Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025231087
- Aktenzeichen
- EP25727153
- Anmeldetag
- 30. April 2025
- Veröffentlichung
- 6. November 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/317H01J37/05H05H9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
377 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.