Methods and apparatus for distortion and bow compensation

WO2025231150 Art A1 6. November 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025231150
Aktenzeichen: EP25798559
Anmeldetag: 30. April 2025
Veröffentlichung: 6. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302H01L21/3105H01L21/02H01L21/3205H01L21/321C23C16/34C23C16/40C23C16/24C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von