Verfahren zur Bestimmung von Kristalldefekten in einem Werkstück aus Einkristallinem Silizium

WO2025233084 Art A1 13. November 2025

Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025233084
Aktenzeichen
EP25717975
Anmeldetag
11. April 2025
Veröffentlichung
13. November 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/66H01L21/3065C30B29/06G01N21/95
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SILTRONIC AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

375 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen