Substrate processing method and substrate processing device

WO2025234182 Art A1 13. November 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025234182
Aktenzeichen: EP25809133
Anmeldetag: 10. Februar 2025
Veröffentlichung: 13. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/36G03F7/004G03F7/20H01L21/027H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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