Radiation-sensitive composition, method for forming resist pattern, and compound

WO2025234216 Art A1 13. November 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025234216
Aktenzeichen: EP25809167
Anmeldetag: 14. März 2025
Veröffentlichung: 13. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C63/70C08F12/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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