Customized full-surface discharge underfloor air distribution system capable of providing various pressure differentials and airflow rates

WO2025234540 Art A1 13. November 2025

Anmelder: SAMSUNG C&T CORPORATION, GC CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025234540
Aktenzeichen: EP24940816
Anmeldetag: 27. September 2024
Veröffentlichung: 13. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: F24F3/044F24F13/068F24F13/02F24F13/08E04C2/52E04F15/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SAMSUNG C&T CORPORATION
GC CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇯🇵 GC

GC Corporation ist ein japanischer Hersteller von Dentalmaterialien und -geräten mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio ist ganz überwiegend auf Medizintechnik im Bereich zahnmedizinischer Werkstoffe konzentriert, ergänzt um Kunststoff- und anorganische Chemie. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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Fachgebiete

Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Hochbau & Gebäudetechnik

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