Method of equalizing gate heights in embedded non-volatile memory on hkmg technology

WO2025235053 Art A1 13. November 2025

Anmelder: INFINEON TECHNOLOGIES LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025235053
Aktenzeichen: EP25810196
Anmeldetag: 14. Februar 2025
Veröffentlichung: 13. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01B/

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INFINEON TECHNOLOGIES LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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