Method of configuring gap pattern for lcm procedures for ai/ml model

WO2025235991 Art A1 13. November 2025

Anmelder: KAZMI, Muhammad Ali, CIRIK, Ali Cagatay, DINAN, Esmael Hejazi, PARK, Kyungmin, JEON, Hyoungsuk, KHOSHKHOLGH DASHTAKI, Mohammad Ghadir, ZHOU, Hua, OFINNO, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025235991
Aktenzeichen: EP25734134
Anmeldetag: 12. Mai 2025
Veröffentlichung: 13. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H04W24/10H04W24/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: KAZMI, Muhammad Ali
CIRIK, Ali Cagatay
DINAN, Esmael Hejazi
PARK, Kyungmin
JEON, Hyoungsuk
KHOSHKHOLGH DASHTAKI, Mohammad Ghadir
ZHOU, Hua
OFINNO, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Ofinno

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Virginia, das Forschung und Patentierung im Bereich Mobilfunk- und Telekommunikationstechnologien betreibt.

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Fachgebiete

Nachrichtentechnik & Telekommunikation

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