Anordnung umfassend ein Mikrolithografisches Projektionssystem und ein Wandelement zur Thermalen Abschirmung und Projektionsbelichtungsanlage

WO2025237794 Art A1 20. November 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025237794
Aktenzeichen: EP25725757
Anmeldetag: 8. Mai 2025
Veröffentlichung: 20. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G02B7/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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